Dermatitis due to nail polish - A study off twenty-six cases with the chief allergenic component toluene sulfonamide formaldehyde resin and related-substances

被引:10
作者
Keil, H [1 ]
Van Dyck, LS [1 ]
机构
[1] Columbia Univ, Skin & Canc Unit, NY Postgrad Med Sch & Hosp, New York, NY USA
来源
ARCHIVES OF DERMATOLOGY AND SYPHILOLOGY | 1944年 / 50卷 / 01期
关键词
D O I
10.1001/archderm.1944.01510130042013
中图分类号
R75 [皮肤病学与性病学];
学科分类号
100206 ;
摘要
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页数:6
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