INFLUENCE OF LAMP POSITION ON AVAILABLE RADIATION FLUX IN AN ANNULAR PHOTOREACTOR

被引：8

作者：

ESPLUGAS, S

VICENTE, M

IBARZ, A

PRAT, C

COSTA, J

机构：

来源：

CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL AND THE BIOCHEMICAL ENGINEERING JOURNAL | 1987年 / 34卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1016/0300-9467(87)85011-6

中图分类号：

TQ [化学工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

引用

页码：111 / 115

页数：5

共 6 条

ESPLUGAS, S ;

IBARZ, A ;

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CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL AND THE BIOCHEMICAL ENGINEERING JOURNAL, 1983, 27 (02) :107-111

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