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ANNEALING THE DI-CARBON RADIATION-DAMAGE CENTER IN SILICON
被引:8
作者
:
DAVIES, G
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0
DAVIES, G
KUN, KT
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KUN, KT
机构
:
来源
:
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY
|
1989年
/ 4卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1088/0268-1242/4/4/043
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:327 / 330
页数:4
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