THERMAL-OXIDATION OF SPUTTERED TIN DIFFUSION-BARRIERS

被引：13

作者：

SIGURD, D ^{[1
]}

SUNI, I ^{[1
]}

WIELUNSKI, L ^{[1
]}

NICOLET, MA ^{[1
]}

VONSEEFELD, H ^{[1
]}

机构：

[1] CALTECH, PASADENA, CA 91125 USA

来源：

SOLAR CELLS | 1981年 / 5卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0379-6787(81)90018-1

中图分类号：

TE [石油、天然气工业]; TK [能源与动力工程];

学科分类号：

0807 ; 0820 ;

摘要：

引用

页码：81 / 86

页数：6

共 13 条

[1] [Anonymous], [No title captured]
[2] CHEUNG N, 1980, P S THIN FILM INTERF, P323
[3] THERMAL-STABILITY OF TITANIUM NITRIDE FOR SHALLOW JUNCTION SOLAR-CELL CONTACTS
CHEUNG, NW
VONSEEFELD, H
NICOLET, MA
HO, F
ILES, P
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1981, 52 (06) : 4297 - 4299
[4] Chu WK., 1978, BACKSCATTERING SPECT
[5] GOLDSCHMIDT HJ, 1967, INTERSTITIAL ALLOYS, P369
[6] GOLDSCHMIDT HJ, 1967, INTERSTITIAL ALLOYS, P219
[7] HAUFFE K, 1965, OXID MET, P211
[8] HAUFFE K, 1965, OXID MET, P217
[9] MAENPAA M, 1981, SOL ENERGY, V27
[10] DIFFUSION BARRIERS IN THIN-FILMS
NICOLET, MA
[J]. THIN SOLID FILMS, 1978, 52 (03) : 415 - 443