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PLASMA SPECTROSCOPY - CONTROL AND ANALYSIS OF A-SI-H DEPOSITION
被引：66
作者：
MATSUDA, A
NAKAGAWA, K
TANAKA, K
MATSUMURA, M
YAMASAKI, S
OKUSHI, H
IIZIMA, S
机构：
关键词：
D O I：
10.1016/0022-3093(80)90591-8
中图分类号：
TQ174 [陶瓷工业];
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
引用
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页码：183 / 188
页数：6
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