EFFECT OF MOBILE INTERSTITIALS ON NUCLEATION OF VOIDS

被引：2

作者：

LOH, BTM

机构：

来源：

SCRIPTA METALLURGICA | 1971年 / 5卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1016/0036-9748(71)90054-8

中图分类号：

TF [冶金工业];

学科分类号：

0806 ;

摘要：

引用

页码：841 / &

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共 6 条

[1] EFFECT OF MOBILE INTERSTITIALS ON NUCLEATION OF VOIDS [J].

BURTON, JJ .

SCRIPTA METALLURGICA, 1971, 5 (06) :449-&

[2] NUCLEATION RATE OF VACANCY CLUSTERS IN CRYSTALS [J].

DAVIS, TL ;

HIRTH, JP .

[3]

DENBIGH K, 1961, PRINCIPLES CHEMICAL

[4]

Frenkel J, 1946, KINETIC THEORY LIQUI

[5]

HODGMAN CD, 1961, HDB CHEMISTRY PHYSIC

[6]

KATZ JL, 1971, JUN INT C RAD IND VO