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ORIGIN OF SECONDARY-ELECTRON-EMISSION YIELD-CURVE PARAMETERS
被引:197
作者
:
DIONNE, GF
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173
MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173
DIONNE, GF
[
1
]
机构
:
[1]
MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1975年
/ 46卷
/ 08期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.322061
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:3347 / 3351
页数:5
相关论文
共 5 条
[1]
BRUINING H, 1954, PHYSICS APPLICATIONS
[2]
EFFECTS OF SECONDARY-ELECTRON SCATTERING ON SECONDARY-EMISSION YIELD CURVES
DIONNE, GF
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173
MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173
DIONNE, GF
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1973,
44
(12)
: 5361
-
5364
[3]
REFLECTION AND TRANSMISSION SECONDARY EMISSION FROM SILICON
MARTINEL.RU
论文数:
0
引用数:
0
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0
MARTINEL.RU
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1970,
17
(08)
: 313
-
&
[4]
Salow H., 1940, Z TECH PHYS, V21, P8
[5]
WELLS OC, 1974, SCANNING ELECTRON MI
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1
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共 5 条
[1]
BRUINING H, 1954, PHYSICS APPLICATIONS
[2]
EFFECTS OF SECONDARY-ELECTRON SCATTERING ON SECONDARY-EMISSION YIELD CURVES
DIONNE, GF
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0
机构:
MIT,LINCOLN LAB,LEXINGTON,MA 02173
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[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1973,
44
(12)
: 5361
-
5364
[3]
REFLECTION AND TRANSMISSION SECONDARY EMISSION FROM SILICON
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MARTINEL.RU
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1970,
17
(08)
: 313
-
&
[4]
Salow H., 1940, Z TECH PHYS, V21, P8
[5]
WELLS OC, 1974, SCANNING ELECTRON MI
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