REMOVAL OF PHOTORESIST FILM RESIDUES FROM WAFER SURFACES

被引：18

作者：

PETERS, DA

DECKERT, CA

机构：

[1] RCA Laboratories, Princeton

来源：

关键词：

aqueous hydrogen peroxide-ammonium hydroxide solution; cleaning; photoresist residues; stripping;

D O I：

10.1149/1.2129162

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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页数：4