PROCESS TECHNIQUES AND RADIATION EFFECTS IN METAL-INSULATOR SEMICONDUCTOR STRUCTURES

被引：14

作者：

DENNEHY, WJ

HOLMESSI.AG

ZAININGE.KH

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/TNS.1967.4324807

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：276 / &

共 14 条

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