EFFECT OF PLANAR OSCILLATIONS ON IMPLANTED DISTRIBUTIONS MEASURED BY LOW-ANGLE HE+ BACKSCATTERING

被引：6

作者：

WAGH, AG ^{[1
]}

WILLIAMS, JS ^{[1
]}

机构：

[1] AARHUS UNIV,INST PHYS,DK-8000 AARHUS C,DENMARK

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0375-9601(78)90610-2

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：175 / 176

页数：2

共 8 条

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