Structure of oxidized silicon film

被引：3

作者：

Kamogawa, H ^{[1
]}

机构：

[1] Tokyo Elect Co, Res Lab, Kawasaki, Japan

来源：

PHYSICAL REVIEW | 1938年 / 54卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRev.54.91

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

收藏

页码：91 / 91

页数：1

相关论文

共 4 条

[1] MAXWELL, 1935, PHYS REV, V47, P331
[2] SHISHACOW, 1936, COMPTES RENDUS ACAD, V1, P19
[3] SHISHACOW, 1935, NATURE, V136, P514
[4] The diffraction of x-rays in glass
Warren, BE
[J]. PHYSICAL REVIEW, 1934, 45 (10): : 0657 - 0661