共 2 条
[1]
CHU HC, 1982, OPTIK, V61, P121
[2]
MUNRO E, 1974, OPTIK, V39, P450
HIGH-PRECISION RETICLE MAKING BY ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
被引：2
作者：
HAMAGUCHI, S
KAI, J
YASUDA, H
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
|
1988年
/
6卷
/
01期
关键词：
D O I：
10.1116/1.584005
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
引用
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页码：204 / 208
页数：5
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