FAST DIFFUSION OF INTERSTITIAL DEUTERIUM IN AMORPHOUS-SILICON

被引:20
作者
ABELES, B [1 ]
YANG, L [1 ]
LETA, D [1 ]
MAJKRZAK, C [1 ]
机构
[1] BROOKHAVEN NATL LAB,UPTON,NY 11973
关键词
D O I
10.1016/0022-3093(87)90084-6
中图分类号
TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
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页码:353 / 356
页数:4
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共 4 条
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