RANDOM PHASE DATA MASKS - FABRICATION TOLERANCES AND ADVANTAGES OF 4 PHASE LEVEL MASKS

被引：24

作者：

STEWART, WC

FOX, EC

FIRESTER, AH

机构：

来源：

APPLIED OPTICS | 1972年 / 11卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1364/AO.11.000604

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：604 / &

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共 4 条

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