LOCAL ATOMIC-STRUCTURE AT THERMALLY GROWN SI/SIO2 INTERFACES

被引:19
作者
FITCH, JT
BJORKMAN, CH
LUCOVSKY, G
POLLAK, FH
YIN, X
机构
[1] N CAROLINA STATE UNIV,DEPT MAT SCI & ENGN,RALEIGH,NC 27695
[2] CUNY BROOKLYN COLL,DEPT PHYS,BROOKLYN,NY 11210
关键词
D O I
10.1016/0169-4332(89)90423-6
中图分类号
O64 [物理化学(理论化学)、化学物理学];
学科分类号
070304 ; 081704 ;
摘要
引用
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页码:103 / 115
页数:13
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