共 2 条
[1]
BOETTCHER A, 1950, OPTIK, V6, P299
[2]
Chopra K.L, 1969, THIN FILM PHENOMENA
INFLUENCE OF THICKNESS AND CONDENSATION RATE ON RESISTIVITY OF EVAPORATED ALUMINIUM FILMS
被引：4
作者：
FRIDRICH, J
KOHOUT, J
机构：
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(71)90043-5
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：R49 / &
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