FIELD DEPENDENCE OF RELAXATION PHENOMENA IN SPUTTERED SILICON OXIDE-FILMS

被引:7
作者
EVERSZUMRODE, K
RABUS, W
机构
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(72)90136-8
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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