The photochemical oxidation of oxalic acid sensitized by ferric ion

被引：19

作者：

Livingston, R ^{[1
]}

机构：

[1] Univ Minnesota, Sch Chem, Minneapolis, MN USA

来源：

JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY | 1940年 / 44卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1021/j150401a006

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页码：601 / 611

页数：11

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