Properties of low reflection films produced by the action of hydrofluoric acid vapor

被引：19

作者：

Nicoll, FH ^{[1
]}

Williams, FE ^{[1
]}

机构：

[1] RCA Labs, Princeton, NJ USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1364/JOSA.33.000434

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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页数：2