CHANGE OF ELECTRICAL-RESISTIVITY OF METAL-FILMS BOMBARDED WITH HELIUM IONS OF LOW-ENERGY

被引：1

作者：

NOMURA, A ^{[1
]}

KANAYAMA, M ^{[1
]}

KIYONO, S ^{[1
]}

机构：

[1] TOHOKU UNIV,FAC ENGN,DEPT APPL PHYS,SENDAI,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1663603

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2394 / 2395

页数：2

共 7 条

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