ALUMINUM FILM GROWTH BY CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF AIH3(NME3)2

被引:51
作者
WEE, ATS [1 ]
MURRELL, AJ [1 ]
SINGH, NK [1 ]
OHARE, D [1 ]
FOORD, JS [1 ]
机构
[1] UNIV OXFORD,INORGAN CHEM LAB,S PARKS RD,OXFORD OX1 3QR,ENGLAND
关键词
D O I
10.1039/c39900000011
中图分类号
O6 [化学];
学科分类号
0703 ;
摘要
引用
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