STRAIN-RELAXATION IN THIN-FILMS ON SUBSTRATES

被引:37
作者
GANGULEE, A [1 ]
机构
[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA
来源
ACTA METALLURGICA | 1974年 / 22卷 / 02期
关键词
D O I
10.1016/0001-6160(74)90008-X
中图分类号
TF [冶金工业];
学科分类号
0806 ;
摘要
引用
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页数:7
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