DEVELOPMENT OF ERC COLD-CATHODE ION-SOURCE FOR USE ON PR-30 ION-IMPLANTATION SYSTEM

被引:7
作者
BIRD, HMB
FLEMMING, JP
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.569739
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1070 / 1075
页数:6
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共 4 条
[1]   PENNING SOURCE FOR ION-IMPLANTATION [J].
FLEMMING, JP .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1369-1372
[2]  
JACKSON JH, 1976, 7TH P INT C EL ION B, P445
[3]   PR-30 ION-IMPLANTATION SYSTEM [J].
MCCALLUM, JG ;
ROBERTSON, GI ;
RODDE, AF ;
WEISSMAN, B ;
WILLIAMS, N .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1978, 15 (03) :1067-1069
[4]   HIGH-CURRENT ION-SOURCE FOR USE ON PR-30 IMPLANTER [J].
WILLIAMS, N .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1978, 15 (03) :1076-1079