XPS PHOTOELECTRON STUDY OF RHODIUM COMPLEXES ATTACHED TO CHEMICALLY MODIFIED SILICAS

被引：8

作者：

KNOZINGER, H

机构：

[1] Institut für Physikalische Chemie, Universität München, 8000 Munich 2

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/S0020-1693(00)95499-9

中图分类号：

O61 [无机化学];

学科分类号：

070301 ; 081704 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：L537 / L538

页数：2

共 7 条

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