RELATIVE ESCAPE DEPTH OF AUGER AND PHOTOELECTRONS FROM A SOLID SURFACE

被引：21

作者：

TODD, CJ ^{[1
]}

HECKINGBOTTOM, R ^{[1
]}

机构：

[1] PO RES STN, LONDON NW2 7DT, ENGLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0375-9601(73)90751-2

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：455 / 456

页数：2

共 6 条

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