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XPS INVESTIGATION OF CDTE SURFACES - EFFECT OF RU MODIFICATION
被引:23
作者
:
BOSE, DN
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BOSE, DN
HEDGE, MS
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HEDGE, MS
BASU, S
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BASU, S
MANDAL, KC
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MANDAL, KC
机构
:
来源
:
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY
|
1989年
/ 4卷
/ 10期
关键词
:
D O I
:
10.1088/0268-1242/4/10/006
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:866 / 870
页数:5
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