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GROWTH OF CRYSTALLINE SILICON, MICROCRYSTALLINE AND EPITAXIAL AT LOW SUBSTRATE-TEMPERATURE
被引：5
作者：
TANABE, H
AZUMA, M
UEMATSU, T
SHIRAI, H
HANNA, J
SHIMIZU, I
机构：
来源：
AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY - 1989
|
1989年
/
149卷
关键词：
D O I：
10.1557/PROC-149-17
中图分类号：
O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];
学科分类号：
070304 ;
081704 ;
摘要：
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页码：17 / 22
页数：6
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