IRON NITRIDE THIN-FILMS PREPARED BY FACING TARGETS SPUTTERING

被引：22

作者：

MORISAKO, A ^{[1
]}

TAKAHASHI, K ^{[1
]}

MATSUMOTO, M ^{[1
]}

NACE, M ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO INST TECHNOL, FAC ENGN, MEGURO KU, TOKYO 152, JAPAN

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1988年 / 63卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1063/1.340851

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：3230 / 3232

页数：3

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共 2 条

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