A MONTE-CARLO MICROTOPOGRAPHY MODEL FOR INVESTIGATING PLASMA REACTIVE ION ETCH PROFILE EVOLUTION

被引:14
作者
COTLER, TJ
BARNES, MS
ELTA, ME
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.584066
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:542 / 550
页数:9
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