CAUSE OF THE 5.0 EV ABSORPTION-BAND IN PURE SILICA GLASS

被引：13

作者：

TOHMON, R ^{[1
]}

YAMASAKA, Y ^{[1
]}

NAGASAWA, K ^{[1
]}

OHKI, Y ^{[1
]}

HAMA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] SAGAMI INST TECHNOL,FUJISAWA,KANAGAWA 251,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/S0022-3093(87)80667-1

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：671 / 678

页数：8

共 5 条

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