FOCUSED ION-BEAM DESIGNS FOR SPUTTER DEPOSITION

被引：13

作者：

KAUFMAN, HR ^{[1
]}

HARPER, JME ^{[1
]}

CUOMO, JJ ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569900

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：179 / 180

页数：2

共 6 条

ASTON, G ;

KAUFMAN, HR ;

WILBUR, PJ .

[2]

Harper J. M. E., 1978, THIN FILM PROCESSES, P175

[3]

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[5] EFFECTS OF ELECTRODE MISALINEMENTS IN KAUFMAN THRUSTERS [J].

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KAUFMAN, HR .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1344-1347