MEETING THE PATTERN DEFINITION CHALLENGE OF 256MBIT DRAM X-RAY MASKS

被引：4

作者：

KOEK, B

GRANT, R

HAAS, L

JENNINGS, B

WALLMAN, B

机构：

[1] Leica Cambridge Ltd, Cambridge, CB1 3QH, Clifton Road

[2] Hampshire Instruments Inc, Marlborough, MA 01752, Nickerson Road

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0167-9317(93)90046-8

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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