REACTIVE DIRECT-CURRENT MAGNETRON SPUTTERING OF ALUMINUM-OXIDE COATINGS

被引：99

作者：

SPROUL, WD ^{[1
]}

GRAHAM, ME ^{[1
]}

WONG, MS ^{[1
]}

LOPEZ, S ^{[1
]}

LI, D ^{[1
]}

SCHOLL, RA ^{[1
]}

机构：

[1] ADV ENERGY IND INC,FT COLLINS,CO 80525

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1995年 / 13卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.579859

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1188 / 1191

页数：4