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ON DOSE CORRECTION IN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
被引：4
作者：
DESHMUKH, PR
KHOKLE, WS
机构：
关键词：
D O I：
10.1063/1.341445
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
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页码：421 / 423
页数：3
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