ANOMALOUS BORON PROFILES PRODUCED BY BF2 IMPLANTATION INTO SILICON

被引：18

作者：

SIGMON, TW

DELINE, VR

EVANS, CA

KATZ, WM

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,DEPT CHEM,URBANA,IL 61801

[2] UNIV ILLINOIS,MAT RES CTR,URBANA,IL 61801

[3] CHARLES EVANS & ASSOCIATES,SAN MATEO,CA 94402

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2129801

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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