TEMPERATURE DEPENDENCE OF DYNAMIC RESPONSE OF SI, GE, AND INSB TO A PULSED ELECTRON BEAM

被引:7
作者
MCLEAN, FB
OSWALD, RB
SCHALLHORN, DR
BUXTON, LD
机构
关键词
D O I
10.1063/1.1660756
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页数:1
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