CASTING OF ORGANIC GLASS BY RADIATION-INDUCED POLYMERIZATION OF GLASS-FORMING MONOMERS AT LOW-TEMPERATURE .2. OPTICAL STRAIN OF REMAINING STRESS TYPE

被引：3

作者：

OKUBO, H ^{[1
]}

YOSHII, F ^{[1
]}

KAETSU, I ^{[1
]}

机构：

[1] KURAMOTO SANGYO CO,KAWAGOE,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1002/app.1978.070220209

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：401 / 410

页数：10

共 4 条

KAETSU, I ;

ITO, A ;

OKUBO, H ;

HAYASHI, K .

JOURNAL OF POLYMER SCIENCE PART A-1-POLYMER CHEMISTRY, 1972, 10 (08) :2203-&

KAETSU, I ;

ITO, A ;

HAYASHI, K ;

OKUBO, H .

JOURNAL OF POLYMER SCIENCE PART A-1-POLYMER CHEMISTRY, 1972, 10 (08) :2215-&

[3]

KAETSU L, 1975, APPL POLYM S, V26, P165

YOSHII, F ;

OKUBO, H ;

KAETSU, I .