HIGH-SPEED BEAM DEFLECTION AND BLANKING FOR ELECTRON LITHOGRAPHY

被引：14

作者：

LIN, LH ^{[1
]}

BEAUCHAMP, HL ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC, MURRAY HILL, NJ 07974 USA

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1973年 / 10卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1318533

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：987 / 990

页数：4