WALL PROFILES PRODUCED DURING PHOTORESIST MASKED ISOTROPIC ETCHING

被引：19

作者：

BRANDES, RG

DUDLEY, RH

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974

[2] BELL TEL LABS INC,ALLENTOWN,PA 18103

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1973年 / 120卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2403388

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：140 / 142

页数：3

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共 2 条

[1]

BRANDES RG, 1971, APPL OPT, V10, P2001

[2]

TOLLIVER DL, 1971, SOLID STATE TECHNOL, V14, P32