DEPOSITION PARAMETERS CONTROLLING CVD OF TIC ON STEEL

被引：10

作者：

DERRE, A ^{[1
]}

DUCARROIR, M ^{[1
]}

TEYSSANDIER, F ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV PERPIGNAN,INST MAT & PROCEDES,F-66025 PERPIGNAN,FRANCE

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2096756

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：853 / 858

页数：6

共 17 条

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