PLASMA SOURCE NITRIDING

被引：7

作者：

NUNOGAKI, M

SUEZAWA, H

HAYASI, K

MIYAZAKI, K

机构：

[1] FUJI ELECTR IND,YAO 581,JAPAN

[2] OSAKA UNIV,FAC ENGN,DEPT NUCL ENGN,SUITA,OSAKA 565,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0169-4332(88)90427-8

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：1135 / 1141

页数：7

共 10 条

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