DEPOSITION AND STUDY OF CVD-TANTALUM CARBIDE THIN-FILMS

被引：7

作者：

GESHEVA, K ^{[1
]}

VLAKHOV, E ^{[1
]}

机构：

[1] BULGARIAN ACAD SCI,NADJAKOV INST SOLID STATE PHYS,BU-1113 SOFIA,BULGARIA

来源：

MATERIALS LETTERS | 1987年 / 5卷 / 7-8期

关键词：

D O I：

10.1016/0167-577X(87)90110-8

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

6

引用

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页码：276 / 279

页数：4

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共 6 条

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