AUGER-ELECTRON ANALYSIS OF OXYGEN CONTAMINATION IN SPUTTER-DEPOSITED NB FILMS

被引：6

作者：

SCHWANEBECK, JC ^{[1
]}

BUITRAGO, RH ^{[1
]}

TOTH, LE ^{[1
]}

GOLDMAN, AM ^{[1
]}

CANTOR, R ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV MINNESOTA,SCH PHYS & ASTRON,MINNEAPOLIS,MN 55455

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1978年 / 49卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1063/1.324614

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：848 / 851

页数：4

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