KINETIC MODELING OF GRAIN-GROWTH IN POLYCRYSTALLINE SILICON FILMS DOPED WITH PHOSPHORUS OR BORON

被引：30

作者：

KIM, HJ

THOMPSON, CV

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2096261

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2312 / 2319

页数：8

共 41 条

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