RADIO-FREQUENCY PLASMA CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION GROWTH OF DIAMOND

被引：31

作者：

MEYER, DE

DILLON, RO

WOOLLAM, JA

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1989年 / 7卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.575936

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：2325 / 2327

页数：3

共 6 条

[1]

ANGUS JC, 1986, PLASMA DEPOSITED THI

[2]

JOHNSON GH, 1988, DIAMOND DIAMOND LIKE

MEYER, DE ;

IANNO, NJ ;

WOOLLAM, JA ;

SWARTZLANDER, AB ;

NELSON, AJ .

MORAVEC, TJ ;

ORENT, TW .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 18 (02) :226-228

[5]

RAVI KV, 1988, SDIO IST ONR DIAMOND

[6]

1989, SPIE S P, V969