SUBMICROSECOND X-RAY LITHOGRAPHY

被引：25

作者：

NAGEL, DJ ^{[1
]}

PECKERAR, MC ^{[1
]}

WHITLOCK, RR ^{[1
]}

GREIG, JR ^{[1
]}

PECHACEK, RE ^{[1
]}

机构：

[1] WESTINGHOUSE ELECT CORP, BALTIMORE, MD 21203 USA

来源：

ELECTRONICS LETTERS | 1978年 / 14卷 / 24期

关键词：

D O I：

10.1049/el:19780528

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：781 / 782

页数：2

共 12 条

[1]

BLAIS PD, COMMUNICATION

[2] ANGULAR-DISTRIBUTIONS OF X-RAY LINE RADIATION FROM A LASER-PRODUCED PLASMA [J].

CHASE, LF ;

JORDAN, WC ;

PEREZ, JD ;

PRONKO, JG .

APPLIED PHYSICS LETTERS, 1977, 30 (03) :137-139

[3]

GREIG JR, 1977, NRL3461 MEM REP

[4]

MALLOZZI PJ, 1973, FUNDAMENTAL APPLIED, P165

[5]

MALLOZZI PJ, UNPUBLISHED

[6] X-RAY-EMISSION FROM LASER-PRODUCED PLASMAS [J].

NAGEL, DJ ;

BURKHALT.PG ;

DOZIER, CM ;

HOLZRICH.JF ;

KLEIN, BM ;

MCMAHON, JM ;

STAMPER, JA ;

WHITLOCK, RR .

PHYSICAL REVIEW LETTERS, 1974, 33 (13) :743-746

[7]

NAGEL DJ, 1977, 12TH P INT C HIGH SP, V97, P132

[8]

NAGEL DJ, 1978, SEMICONDUCTOR MICROL, V3

[9]

PECKERAR MC, UNPUBLISHED

[10]

Spiller E., 1977, X-ray optics. Applications to solids, P35

← 1 2 →