APPLICATION OF IONIC MICROANALYSIS TO DETERMINATION OF BORON DEPTH PROFILES IN SILICON AND SILICA

被引：26

作者：

BLANCHARD, B ^{[1
]}

HILLERET, N ^{[1
]}

QUOIRIN, JB ^{[1
]}

机构：

[1] COMM ENERGY ATOM, GRENOBLE, FRANCE

来源：

JOURNAL OF RADIOANALYTICAL CHEMISTRY | 1972年 / 12卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1007/BF02520978

中图分类号：

O65 [分析化学];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

引用

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