STUDY OF OXYGEN GROWTH LAWS OF ANODIC OXIDE FILMS ON ALUMINUM AND TANTALUM USING NUCLEAR MICROANALYSIS OF O16 AND O18

被引:69
作者
SIEJKA, J
NADAI, JP
AMSEL, G
机构
关键词
D O I
10.1149/1.2408154
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
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页码:727 / &
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