PROPERTIES OF LIQUID PHOTORESISTS USED IN PHOTO-ETCHING OF STAINLESS-STEEL

被引：5

作者：

ALLEN, DM ^{[1
]}

HORNE, DF ^{[1
]}

STEVENS, GWW ^{[1
]}

机构：

[1] CRANFIELD INST TECHNOL,SCH PROD STUDIES,CRANFIELD MK43 0AL,BEDFORDSHIRE,ENGLAND

来源：

JOURNAL OF PHOTOGRAPHIC SCIENCE | 1977年 / 25卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1080/00223638.1977.11737952

中图分类号：

TB8 [摄影技术];

学科分类号：

0804 ;

摘要：

引用

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页数：4