DISTORTED LAYERS IN SILICON PRODUCED BY GRINDING AND POLISHING

被引:24
作者
DASH, WC
机构
关键词
D O I
10.1063/1.1723079
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:228 / 229
页数:2
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共 3 条
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